Les autorités chinoises mécontentes du contrôle des exportations d’ASML.
Dans le domaine de l’informatique et des PC, les enjeux liés aux exportations des outils de lithographie avancée d’ASML suscitent des réactions de la part des autorités chinoises. Une situation qui reflète les tensions actuelles entre les États-Unis et la Chine en matière de contrôle des exportations de semi-conducteurs et d’équipements connexes.
Des réactions chinoises face aux mesures prises par les Pays-Bas
De récentes décisions prises par le gouvernement néerlandais ont conduit à un resserrement des contrôles sur les exportations des systèmes de lithographie immersion DUV Twinscan NXT:1970i et 1980i d’ASML. Ces outils, bien que non les plus récents de la gamme DUV, sont équipés d’un laser à fluorure d’argon capable d’une résolution de 38 nm, adaptés au traitement de plaquettes avec des technologies de classe 7 nm, voire plus fines avec la multi-impression.
Étant donné que ces outils utilisent une technologie développée aux États-Unis, des licences d’exportation sont nécessaires pour les expédier vers la Chine. Malgré le contrôle accru exercé par le gouvernement néerlandais sur ces exportations, ASML ne prévoit pas de changement significatif dans le traitement des licences, malgré des éventuelles examens supplémentaires.
Des enjeux économiques et politiques
La réaction de la Chine face à ces mesures montre leur mécontentement, dénonçant une pression américaine visant à limiter son accès à ces outils de pointe. Cette affaire soulève des enjeux économiques et politiques, induisant des tensions entre les différents acteurs du marché mondial des semi-conducteurs.
Source : www.tomshardware.com
